[16p-P02-1~7] 8.2 Plasma deposition of thin film, plasma etching and surface treatment

[16p-P02-1] Numerical Analysis of Influence of Target Materials on Fundamental Properties of HiPIMS plasma

〇Motoki Abe¹, Keita Kakinuma¹, Takayuki Ohta², Akinori Oda¹ (1.Chiba Inst. Technol., 2.Meijo Univ.)

Keywords:

Plasma,Sputtering

大電力パルスマグネトロンスパッタリング(HiPIMS)は, プラズマを用いた金属成膜手法の一つである。パルス電源を用い, 金属粒子をイオン化させることで膜密度や密着性を向上させる。しかし, ターゲット材料がHiPIMSプラズマ基礎特性に及ぼす影響は未解明である。本研究では, HiPIMSプラズマの空間0次元モデルを構築し, ターゲット材料がプラズマ基礎特性に及ぼす影響を解析したため報告する。