講演情報
[16p-P02-1]ターゲット材料がHiPIMSプラズマ基礎特性に及ぼす影響の数値解析
〇阿部 元暉1、柿沼 慧多1、太田 貴之2、小田 昭紀1 (1.千葉工大、2.名城大)
キーワード：
プラズマ、スパッタリング
大電力パルスマグネトロンスパッタリング(HiPIMS)は, プラズマを用いた金属成膜手法の一つである。パルス電源を用い, 金属粒子をイオン化させることで膜密度や密着性を向上させる。しかし, ターゲット材料がHiPIMSプラズマ基礎特性に及ぼす影響は未解明である。本研究では, HiPIMSプラズマの空間0次元モデルを構築し, ターゲット材料がプラズマ基礎特性に及ぼす影響を解析したため報告する。