[17a-K101-1~13] 13.5 Semiconductor devices/ Interconnect/ Integration technologies

10:15 AM - 10:30 AM JST(1:15 AM - 1:30 AM UTC)

[17a-K101-6] Development of STI CMP process technology for GAAFET

〇Yuji Kasashima¹, Takashi Matsukawa¹, Atsushi Yagishita¹, Yoshihiro Hayashi¹ (1.SFRC, AIST)

Keywords:

CMP,OCD,EPD

インラインエンドポイント検出（EPD）と非破壊３次元形状検出（垂直入射型OCD）用いたSTI酸化膜埋め込み平坦化プロセス技術の開発