[17a-K101-1~13] 13.5 デバイス／配線／集積化技術

10:15 〜 10:30

[17a-K101-6] GAAFET製造におけるSTI酸化膜CMPプロセス技術の開発

〇笠嶋 悠司¹、松川 貴¹、八木下 淳史¹、林 喜宏¹ (1.産総研 SFRC)

キーワード：

CMP、OCD、エンドポイント検出

インラインエンドポイント検出（EPD）と非破壊３次元形状検出（垂直入射型OCD）用いたSTI酸化膜埋め込み平坦化プロセス技術の開発