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[17a-K505-1]Data assimilation for oxygen precipitates distribution inside Si wafers in cascade process

〇Takuya Kusunoki1, Junta Abe1, Yuta Nagai1, Haruo Sudo1, Hiroya Iwashiro1, Rie Takasu1, Hironori Banba1, Koji Izunome1, Susumu Maeda2, Shota Seki2 (1.GlobalWafers Japan, 2.Aixtal)

Keywords:

Data assimilation,Process Informatics,Bulk Micro Defect

本研究では、従来は単工程のみで行われてきたデータ同化を、製造プロセスが直列多段に連なる「カスケード工程」に適用した。酸素析出物(BMD)の形成・成長・溶解挙動を再現するシミュレータと、IRトモグラフィーで測定したBMD分布を基に、遺伝的アルゴリズムでパラメータを推定した。これにより、各工程を跨いだBMD挙動のシミュレーション精度を向上し、デバイス構造に合わせた欠陥制御・設計に繋げることを目指した。

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