[17a-K505-1~9] 23.1 合同セッションN「インフォマティクス応用」

9:00 〜 9:15奨励賞エントリー

[17a-K505-1] カスケード工程におけるSiウェーハ内部の酸素析出物分布のデータ同化

〇楠木 琢也¹、阿部 諄汰¹、永井 勇太¹、須藤 治生¹、岩城 浩也¹、高須 理栄¹、番場 博則¹、泉妻 宏治¹、前田 進²、関 翔太² (1.グローバルウェーハズ・ジャパン、2.アイクリスタル)

キーワード：

データ同化、プロセスインフォマティクス、酸素析出物

本研究では、従来は単工程のみで行われてきたデータ同化を、製造プロセスが直列多段に連なる「カスケード工程」に適用した。酸素析出物(BMD)の形成・成長・溶解挙動を再現するシミュレータと、IRトモグラフィーで測定したBMD分布を基に、遺伝的アルゴリズムでパラメータを推定した。これにより、各工程を跨いだBMD挙動のシミュレーション精度を向上し、デバイス構造に合わせた欠陥制御・設計に繋げることを目指した。