[17p-K103-1~9] 13.4 Si processing /Si based thin film / MEMS / Equipment technology

3:15 PM - 3:30 PM JST(6:15 AM - 6:30 AM UTC)

[17p-K103-7] Application study of hydrogen atmosphere surface treatment using the Minimal Fab laser heating tool to semiconductor CMOS devices(Ⅱ)

〇kazushige sato^1,2, Takashi Chiba^1,2, Masao Terada^1,2, Kengo Hamada^1,2, Yoshiaki Kanamori³, Noriko Miura⁴, Shinichi Ikeda⁴, Shiro Hara^1,4 (1.MINIMAL, 2.SAKAGUCHI ELECTRIC HEATERS, 3.TOHOKU UNIV., 4.AIST)

Keywords:

Minimal Fab,Laser Heating

既存のミニマルCMOSプロセスをベースに水素雰囲気表面処理を施した p MOSトランジスタを作製し、特性を評価 した。