[17p-K304-1~8] 8.2 Plasma deposition of thin film, plasma etching and surface treatment

3:00 PM - 3:15 PM JST(6:00 AM - 6:15 AM UTC)

[17p-K304-6] Etching Product’s Distribution by Ion Beam with Oblique Angle

Tomoko Ito¹, 〇Kazuhiro Karahashi¹, Satoshi Hamaguchi¹ (1.Osaka Univ.)

Keywords:

etching,ion

高アスペクトエッチングでは、側壁に入射するイオンによる脱離するエッチング生成物の再付着がエッチング形状に大きな影響を与えており、脱離するエッチング生成物の角度分布の理解が重要となってきている。本研究では、斜入射イオンビーム照射実験を行い、試料表面からの脱離生成物の角度分布を評価した