[H-1] Group IV Materials

2:00 PM - 2:15 PM JST(5:00 AM - 5:15 AM UTC)

[H-1-02] Atomic Layer Epitaxy of Si in Ge

〇Yuji Yamamoto^1,2, Wei-Chen Wen¹, Markus Andreas Schubert¹, Daniel Steckler¹, Junichi Murota³, Bernd Tillack^1,4 (1. IHP - Leibniz-Inst. für innovative Mikroelektronik (Germany), 2. Nagoya Univ. (Japan), 3. Micro System Integration Center, Tohoku Univ. (Japan), 4. Tech. Univ. Berlin (Germany))