[[G]3401-3pm] 20. 材料化学―基礎と応用

15:20 〜 15:40日本語

[[G]3401-3pm-06] アミド基修飾POSSの原子状酸素耐性評価

○行松 和輝^1,2、横山 創一²、丸山 幹人²、後藤 亜希¹、田川 雅人³、木本 雄吾¹、家 裕隆² (1. 宇宙航空研究開発機構、2. 阪大産研、3. 神戸大院工)

キーワード：

かご型シルセスキオキサン、原子状酸素