[[G]3402-2am] 20. 材料化学―基礎と応用

10:10 〜 10:20日本語

[[G]3402-2am-07] ヘキシル基を側鎖とするポリシルセスキオキサンの合成と非溶媒誘起相分離膜の作製

○冨澤 優¹、山本 一樹¹、天博 郡司¹ (1. 東京理科大学)

キーワード：

シロキサン、膜、浸漬、ヘキシルトリエトキシシラン、非溶媒誘起相分離