日本化学会 第105春季年会 (2025)
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アカデミックプログラム［Ａ講演］20. 材料化学―基礎と応用：口頭Ａ講演

[[G]3402-2am]20. 材料化学―基礎と応用

2025年3月27日(木) 9:00 〜 11:30
[G]3402(第4学舎 3号館 [4階] 3402)
9:00 〜 9:10英語

[[G]3402-2am-01]Observation of neuromorphic behavior in Cu-based metal-organic framework

○Dildora Khakimboeva1, Takashi Kitao1,2, Ryo Nakayama1, Taro Hitosugi1, Takashi Uemura1 (1. The University of Tokyo, 2. JST-PRESTO)
9:10 〜 9:20日本語

[[G]3402-2am-02]カーボンナノスレッド創製に向けたMOF空間内キュバン重合

○髙橋 遼1、北尾 岳史1,2、植村 卓史1 (1. 東大院工、2. JSTさきがけ)
9:20 〜 9:30日本語

[[G]3402-2am-03]Snベースペロブスカイト半導体/Sn MOF複合体の作製

○西島 遥1、髙嶋 洋平1、赤松 謙祐1、鶴岡 孝章1 (1. 甲南大学)
9:30 〜 9:40日本語

[[G]3402-2am-04]サブナノ空間で発現する性質を利用した機能性材料開発

○林 孝星1、渡辺 洋人2、今井 宏明2 (1. 東京都立産業技術研究センター、2. 慶應義塾大学)
9:40 〜 9:50

休憩

9:50 〜 10:00英語

[[G]3402-2am-05]高フッ素化POSSを低屈折率化フィラーとしたフッ素樹脂ハイブリッド材料の作製

○國光 達明1、権 正行1、田中 一生1 (1. 京大院工)
10:00 〜 10:10日本語

[[G]3402-2am-06]かご型シルセスキオキサンの分子内の空孔を利用した気体分離膜の開発

○小川 悠1、五十嵐 正安2、山本 一樹1、郡司 天博1 (1. 東京理科大学、2. 産業技術総合研究所)
10:10 〜 10:20日本語

[[G]3402-2am-07]ヘキシル基を側鎖とするポリシルセスキオキサンの合成と非溶媒誘起相分離膜の作製

○冨澤 優1、山本 一樹1、天博 郡司1 (1. 東京理科大学)
10:20 〜 10:30日本語

[[G]3402-2am-08]ブテン・ブチン架橋型アルコキシシランの合成と逆浸透膜の調製

○相澤 康太1、山本 一樹1、郡司 天博1 (1. 東京理科大学)
10:30 〜 10:40

休憩

10:40 〜 10:50日本語

[[G]3402-2am-09]ホウ素触媒を用いたポリシルセスキオキサン膜のよる硬化

○佐藤 春翔1、山本 一樹1、郡司 天博1 (1. 東京理科大学)
10:50 〜 11:00日本語

[[G]3402-2am-10]表面修飾ナノシートを用いた超撥水コーティングの作製

○須藤 悠文1、仁科 勇太2、今井 宏明1、緒明 佑哉1 (1. 慶應義塾大学、2. 岡山大学)
11:00 〜 11:10日本語

[[G]3402-2am-11]窒化ホウ素を充填したポリスチレンの熱物性評価

○本多 巧一1 (1. 大阪大学)
11:10 〜 11:20日本語

[[G]3402-2am-12]ポリブチレンテレフタレート（PBT）をハードセグメントとした熱可塑性エラストマーへの酸化亜鉛をバインダー層とした表面処理法の開発

○吉原 佐知雄1、大田和 幸香1、中澤 育子1、石川 祥久2、元井 健一郎2、及川 哲史2 (1. 宇都宮大学、2. 日本プレーテック株式会社)
11:20 〜 11:30日本語

[[G]3402-2am-13]生分解性高分子/水酸アパタイト複合体の表面修飾(I) -エチドロン酸の導入検討-

○伊藤 凜1、藤田 正博1、陸川 政弘1、竹岡 裕子1 (1. 上智大理工)
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