[[PB]-3am] 18. 高分子

10:00 〜 11:30日本語

[[PB]-3am-75] ナフタレンジイミド部位を有するポリシロキサンとドナー分子による複合膜の作製と力学特性評価

○升 喜幸¹、雨森 翔悟^2,3、重田 泰宏^2,3、栗原 拓也²、井田 朋智²、水野 元博^2,3 (1. 金沢大学理工、2. 金沢大学院自然、3. 金沢大学ナノマテリアル研究所)

キーワード：

刺激応答性高分子、電荷移動錯体、ポリシロキサン、力学特性、高分子材料