セッション詳細

最先端電子デバイスプロセス技術(1)

2025年3月20日(木) 13:00 〜 14:00
S19(講義棟0024)
座長:小林 清輝(電子科学株式会社)
主催:電子材料委員会

[S19_3_01(特別講演)]3D-NAND型メモリにおけるワードラインの低抵抗化技術

〇寺田 博1 (1. 東京エレクトロン株式会社)

[S19_3_02(特別講演)]多層グラフェンプロセスと配線・高周波デバイスへの応用

〇上野 和良1 (1. 芝浦工業大学)