[C-3/4] 光エレクトロニクス/レーザ・量子エレクトロニクス

14:30 〜 14:45

[C-3_4-35] ハイメサ狭幅化によるEMLの高速・高消光比動作

○外間 洋平¹、辻 敏弥¹、奥田 真也¹、内山 麻美¹、白尾 瑞基¹、大和屋 武¹、山内 康寛¹ (1. 三菱電機)

キーワード：

狭幅ハイメサEML