[P] P3~P10

[P10] AuGeの同時スパッタリングによるGe結晶薄膜の作製

*諏佐 優¹、弓野 健太郎^2,3 (1. 芝浦工業大学(院生)、2. 芝浦工業大学、3. 芝浦工業大学半導体人材育成センター)

キーワード：

半導体、材料、薄膜

低融点の基板上に半導体結晶薄膜を作製することで様々なデバイスの製造が可能となるため、近年、低温での結晶化プロセスが求められている。GeとAuを同時にスパッタリングすることによって低温で結晶薄膜が得られる。