講演情報

[328]電子ビーム積層造形における純タングステンの緻密化と亀裂生成メカニズム

*佐藤 虹斗1、森 真奈美1、鈴木 夢華1、大野 悟史2、初田 光嶺2、佐藤 崇2、眞部 弘宣2、山中 謙太3 (1. 仙台高専、2. 日本電子、3. 東北大金研)

キーワード:

Additive Manufacturing、電子ビーム積層造形、タングステン、組織形成、プロセス最適化、割れ

純タングステンの電子ビーム積層造形における緻密化挙動および亀裂発生に及ぼす造形条件の影響について調査した。