セッション詳細
[P]P105~P109
2025年3月8日(土) 15:00 〜 16:30
8号館1階/9号館1階(P28~P31,P105~P109)
[P105]パックセメンテーション法による Nb 基合金 C103 へのシリサイドコーティング形成
*安永 騎士1、蘇 亜拉図2、若林 英輝3 (1. 島根大総理工、2. NTT データザムテクノロジーズ、3. 島根大 NEXTA)
[P106]斜入射反応性蒸着法により作製したInN薄膜のモルフォロジー
*渡邉 将騎1、井上 泰志1、高井 治2 (1. 千葉工業大学、2. 関東学院大材料表面研)
[P107]銀ナノ粒子を用いたn型シリコンの金属援用エッチング ―過酸化水素濃度の影響―
*橋口 達希1、松本 歩1、八重 真治1 (1. 兵庫県立大)
[P108]電解Niめっき中の水素侵入解析およびNi膜中の水素分析
―添加剤および攪拌の影響―
*多嶋 虎太朗1、福室 直樹1、八重 真治1 (1. 兵庫県立大学(院生))
[P109]Exploring the Physical Mechanisms Behind Nanoparticle Structural Changes Under In-situ Observation Using Environmental High-Voltage Electron Microscope
*唐 龍樹1、志賀 元紀2、武藤 俊介1,3 (1. 名大工、2. 東北大、3. 名大未来研)