若手ポスター-2

[Y1152] リポソーム作製法の検討およびホタルルシフェリンの内包

○森下 颯太¹、葛綿 裕介¹、小島 直²、西原 諒²、栗田 僚二²、上野 祐子¹ (1. 中大院理工、2. 産総研)

キーワード：

リポソーム、水和法、電気形成法、ホタルルシフェリン、蛍光強度