産業界R&Dポスター

[RD2111] 半導体製造プロセス用パターニング材料における微小欠陥の化学組成解析

○戸川 遥絵¹ (1. 富士フイルム（株）)

キーワード：

半導体材料、欠陥、微小異物、AFM-IR、局所解析