出展者一覧(材料)

[M-31] (株)イオンテクノセンター

(株)イオンテクノセンター

■イオン注入及び半導体デバイス製造プロセスの受託サービス ■化合物半導体の分析技術

住所573-0128
大阪府枚方市津田山手2-8-1
TEL072-859-6601
FAX072-859-5770
Webサイト・SNS https://iontc.co.jp/
[M-33] (株)オキサイド

(株)オキサイド

■光学単結晶 ■波長変換素子 ■波長変換モジュール ■レーザ等

住所408-0302
山梨県北杜市武川町牧原1747-1
TEL0551-26-0022
FAX0551-26-0033
Webサイト・SNS https://www.opt-oxide.com/
[M-30] 気相成長(株)

気相成長(株)

■原料パンフレット ■原料容器サンプル

住所184-0012
東京都小金井市中町2-24-16 東京農工大学 URAC 104号室
TEL042-388-7917
Webサイト・SNS http://www.kisoh-seicho.com/
[A-20] (有)クリスタルベース

(有)クリスタルベース

■酸化物単結晶 ■半導体単結晶 ■金属単結晶 ■その他単結晶

住所560-0082
大阪府豊中市新千里東町1-4-2 千里ライフサイエンスセンタービル11階
TEL06-6170-6490
FAX06-6170-6491
Webサイト・SNS https://crystalbase.co.jp/
[M-32] (株)GLORY

(株)GLORY

■SiC Wafer, GaN Wafer, GaAs Wafer, InP Wafer, Sapphire Wafer ■GaAs /InP based Epi-Wafer

住所161-0034
東京都新宿区上落合1-30-14 大関ビル
TEL03-5937-5273
FAX03-5937-5274
Webサイト・SNS http://www.glory-g.co.jp/
[A-14] (有)ケイ・アンド・アール クリエーション

(有)ケイ・アンド・アール クリエーション

未定

住所563-0055
大阪府池田市菅原町11-9-201
TEL072-752-7975
Webサイト・SNS http://www.k-and-r.co.jp/
[M-26] (株)高純度化学研究所

(株)高純度化学研究所

■CVD材料 ■スパッタリングターゲット ■各種粉末 ■粒状材料 ■スピンコート材料、その他

住所350-0284
埼玉県坂戸市千代田5-1-28
TEL049-284-1511
FAX049-284-1351
Webサイト・SNS https://www.kojundo.co.jp/
[M-27] セラミックフォーラム(株)

セラミックフォーラム(株)

■SiCウエハ ■GaN基板 ■測定装置(DLTS装置、及び自社装置CS2:高速・非破壊でSiCウエハ結晶内部品質診断が可能) ■DLTS受託測定サービス

住所101-0054
東京都千代田区神田錦町3-19-6 楠本ビル9階
TEL03-5577-2947
Webサイト・SNS http://www.ceramicforum.co.jp/
[M-29] 大和鉄原工産(株)

大和鉄原工産(株)

■半導体ウェハーなど

住所104-0032
東京都中央区八丁堀3-27-4 八重洲桜川ビル7階
TEL03-5540-6838
Webサイト・SNS https://www.daiwa-tk.co.jp/
[M-28] 東ソー(株)

東ソー(株)

■1)GaNターゲット:高配向性膜をスパッタ法で形成可能な高純度・高密度GaNターゲットです。 ■2) CrSiターゲット:成膜時、高抵抗率かつ温度安定性に優れます。 ■3) 酸化インジウムをベースとしたスパッタリングターゲット①USR:ITOでは達成困難な100℃で結晶化し低抵抗を示します。②SRE:赤外線高透過率と低抵抗率を両立可能です。

住所105-8623
東京都港区芝3-8-2
TEL03-5427-5171
FAX03-5427-5200
Webサイト・SNS https://www.tosoh.co.jp/product/?category=functionality
[A-24] フルウチ化学(株)

フルウチ化学(株)

■SrTiO3単結晶 ■TiO2単結晶 ■各種 真空蒸着材料

住所140-0013
東京都品川区南大井6-17-17
TEL03-3762-8161
FAX03-3766-8310
Webサイト・SNS http://www.furuchi.co.jp/