[20a-A201-1~11] 3.14 シリコンフォトニクス・集積フォトニクス（旧3.15）

11:15 〜 11:30

[20a-A201-9] Si フォトニクスフル集積FMCW LiDAR チップの環境光耐性 — 相互干渉の理論と確率 —

〇鎌田 幹也¹、馬場 俊彦¹ (1.横国大院工)

キーワード：

FMCW LiDAR,Siフォトニクス,相互干渉