講演情報
[20p-B205-15]高出力青色半導体レーザーを用いた純銅溶接時に発生する プルームの分光解析
〇(M1C)須藤 真央1、藤尾 駿平1、竹中 啓補2、水谷 正海2、佐藤 雄二2、塚本 雅裕2 (1.阪大院工、2.阪大接研)
キーワード：
青色半導体レーザー,純銅,レーザー誘起プルーム
これまでに我々は高効率な純銅溶接実現のため，高出力青色半導体レーザーの開発を行ってきた．本レーザーを用いて純銅のキーホール型溶接を行うと，レーザー誘起プルームが発生する．本研究では，溶接の高品質化のため，微小エリアのサンプリング用光学系を設計し，高出力青色半導体レーザーを用いた純銅のキーホール型溶接におけるレーザー誘起プルームの時間・空間分光解析を行い，レーザー誘起プルームの性状を明らかにした．