超短パルスを利用した干渉計測は非線形光学や時間・空間選択性を活用することで高機能計測が可能となる。しかし、一般に構造計測や断層計測などにおいては目的の信号光は微弱であり、強い表面反射背景光による検出器飽和によって生じるダイナミックレンジ低下が課題となる。本研究では、光コムの位相制御を用いた逆位相パルスの干渉による背景光除去手法を開発し、その背景光抑制比の評価とその向上を目指して研究を行った。