[21p-B205-1~8] 3.6 レーザープロセシング（旧3.7）

15:15 〜 15:30

[21p-B205-7] レーザー直描による Er:YAG セラミクスへの導波路作製

〇(D)住谷 大志¹、谷 峻太郎¹、角田 明博²、中﨑 雅人²、小林 洋平¹ (1.東大物性研、2.JX金属)

キーワード：

導波路,レーザー直描,エルビウムヤグセラミクス

本研究ではフェムト秒レーザー直描を使って利得媒質中に導波路状の共振器構造を描き込み、安定で小型の発振器や増幅器を作製することを目指している。
本実験では1.65 um帯に発振波長を持つEr:YAG セラミクスに導波路作製を行った。まずこの材料を媒質とする Bow-Tie 型共振器を構築し、レーザー発振を確認した。この共振器を用いて利得を確認し、同材料にフェムト秒レーザー直描で直線型導波路を作製した。本講演でこの導波路の特性を報告する。