講演情報
[23p-A202-9]分子処理による折り畳み２層TMDC構造の作製
〇四谷 祥太郎1、丸山 実那2、岡田 晋2、桐谷 乃輔1 (1.東大院総合、2.筑波大数理)
キーワード：
遷移金属ダイカルコゲナイド,二硫化モリブデン
二次元材料の応用において、材料の積層は重要な技術である。モアレパターンやヘテロ積層構造の形成により、新奇物性発現の場として注目されている。しかし、現在の機械的な積層手法は、高度な技術を要する手法である。そこで我々は、分子処理という簡便な手法を用いて二次元材料を折り畳み、積層させる研究を行っている。本発表では、分子処理により単層二次元半導体材料を折り畳み、2層構造を形成する手法について発表する。