講演情報
[22a-12N-1]回転放物面鏡を用いた立体リソグラフィ光学系の歪と光強度分布の補正
〇堀内 敏行1、岩崎 順哉1、小林 宏史1 (1.東京電機大工)
キーワード：
立体面投影露光,放物面鏡,フィールド歪
回転放物面鏡を対向配置した光学系を用いて任意の緩い曲面上に数10～数100µm線幅の大パターン転写を可能にするリソグラフィ技術を開発中である。しかし、投影歪と露光強度分布の改善が課題であった。正方格子レチクルを投影するときの歪分布を計算できるようにし、歪を補正できるレチクルパターン座標を逆計算した。また、光強度を修正するため光源分布を調整した。平面転写に関しては、歪を補正できる見通しを得た。