講演情報
[22a-12N-2]ビルトインレンズマスクを用いた三次元フォトリソグラフィによるパターン形成
田中 敏章1、安田 雅昭1、笹子 勝1、〇平井 義彦1 (1.大阪公大)
キーワード：
三次元リソグラフィ,一括露光,スティッキング
空間中に任意の強度分布で結像する波面を再生するビルトインレンズマスク(BILM:Built-in lens mask) は、一枚のマスクによる単純一括露光により多重焦点機能が可能であり、これを利用して三次元像を結像できる。これまでに、コンピュテ―ショナル・リソグラフィ(CL)によりその有効性を検証してきたが、実験的な検証を試みた。