講演情報
[22p-P07-26]スチレン添加大電力パルススパッタリング(HPPS)プラズマで堆積させた炭素膜の解析
大石 侑叶1、桒田 篤哉1、東田 遼平1、〇篠原 正典1、前田 文彦2、田中 諭志3、松本 貴士3 (1.福岡大、2.福岡工大、3.東京エレクトロン テクノロジーソリューションズ)
キーワード：
グラフェン,原料分子,赤外分光
これまで、スチレンを導入した真空槽で大電力インパルスマグネトロン放電によりグラフェンの成長を試みてきた。今回、スチレンの役割を解析するために、室温の基板上に膜を堆積させ、その膜の化学結合状態をFTIRで調べた。分子中の六員環の結合は分解されているのではないかと思われる結果を得た。発表では、これまでの結果を踏まえて実験方法・結果。考察について議論する予定である。