講演情報
[22p-P07-46]六方晶窒化ホウ素粉末を用いた薄膜形成と酸化グラフェンとの複合膜形成
〇小幡 誠司1、仁科 勇太1 (1.岡山大学異分野コア)
キーワード：
グラフェン,酸化グラフェン,六方晶窒化ホウ素
六方晶窒化ホウ素(h-BN)はグラフェンのintrinsicな性質を引き出す基板として、注目を集めている。グラフェンとの積層膜の作製法については多くの研究がなされているが、その多くはh-BNの単結晶を用いた手法である。本発表では、産業的応用を目指し、大量合成可能で安価なh-BN粉末からh-BN薄膜を生成を行った。さらに同様に大量合成が可能な酸化グラフェンを用いて積層膜の大量生成も行った。