[23a-12H-1~11] 6.1 強誘電体薄膜

11:15 〜 11:30

[23a-12H-9] 電子線描画HSQをマスクに用いたBiFe_0.9Co_0.1O₃ナノドットの作製

〇(B)中山 創¹、吉川 浩太¹、Lee Koomok¹、安井 学²、金子 智²、黒内 正仁²、重松 圭^1,2,3、東 正樹^1,2,3 (1.東工大フロンティア材料研、2.KISTEC、3.東工大住友化学協働研究拠点)

キーワード：

マルチフェロイック,強誘電体