[23a-12K-1~8] 13.4 Si系プロセス・Si系薄膜・MEMS・装置技術

11:00 〜 11:15奨励賞エントリー

[23a-12K-8] 拡張伝送線モデル(TLM)法を用いた熱電半導体の接触抵抗の精密測定

〇桂 章皓¹、鶴元 真妃¹、廣瀬 由紀子¹、佐藤 峻²、岩瀬 英治²、菅原 徹¹ (1.京工繊大、2.早稲田大)

キーワード：

伝送線モデル法