講演情報
[23a-P07-16]MOD法による磁性ガーネット薄膜作製における反射スペクトル測定
〇中澤 俊1、張 健1、チャフィ ファティマ ザーハラ1、西川 雅美1、河原 正美2、石橋 隆幸1 (1.長岡技大、2.高純度化学)
キーワード：
磁性薄膜
磁性ガーネットをポリイミドのような耐熱温度が350 ℃程度の高分子基材へ成膜するには、成膜プロセスの低温化が必要である。我々は、光MOD法による低温成膜法の開発を行い、本焼成温度を450 ℃まで下げることに成功した。しかし、プロセス温度を350 ℃程度まで下げるためには、仮焼成プロセスでの温度も下げる必要がある。そこで、今回は、仮焼成中の変化を評価するため、試料の反射スペクトル測定を行った。