セッション詳細

[23a-P07-1~19]6.4 薄膜新材料

2024年3月23日(土) 9:30 〜 11:30
P07 (9号館)

[23a-P07-1]サファイア基板上のマンガン極薄膜の第一原理電子状態解析

〇(M1)宮崎 晃希1、小幡 正雄1、小田 竜樹1 (1.金沢大院自然)

[23a-P07-2]FeRh合金薄膜の成膜条件の違いによる磁気相転移温度への影響

〇福住 正文1 (1.兵庫県立工業技術センター)

[23a-P07-3]UHVスパッタエピタキシー法によるZnO単結晶層の成長(Ⅱ)

〇池田 陽登1、三澤 亮太1、加茂 幸樹1、小島 太一1、吉田 圭佑1、篠田 宏之1、六倉 信喜1 (1.東京電機大工)

[23a-P07-4]UHVスパッタエピタキシー法による六方晶及び立方晶GaN層の成長

〇三根 秀斗1、永山 陸1、古賀 誠大1、澤田 泰希1、手柴 光佑1、中川 治紀1、吉田 圭佑1、篠田 宏之1、六倉 信喜1 (1.東京電機大工)

[23a-P07-5]蒸着法によるSiN薄膜の作製

〇室 幸市1、望月 章2、金澤 弥3 (1.帝京大理工、2.大正光学、3.三和研磨工業)

[23a-P07-6]MBE法で作製したScN薄膜の非化学量論的組成と電気特性

〇大垣 武1、坂口 勲1、大橋 直樹1 (1.物材機構)

[23a-P07-7]MXene薄片を用いたFETの電気伝導特性評価

〇道祖尾 恭之1、Md Nasiruddin1,2、高岡 毅1、Saidur Rahman3、米田 忠弘1 (1.東北大学・多元研、2.東北大理化、3.Sunway University,)

[23a-P07-8]Relationship between the sputtering power and the properties of RuTe2 thin film

〇(D)SHIHYUAN LI1, Yi Shuang2, Daisuke Ando1, Yuji Sutou1,2 (1.Tohoku Univ., 2.Tohoku Univ. AIMR)

[23a-P07-9]固相反応法によるp型酸化物半導体Bi2WO6薄膜の作製

〇高桑 一朗1、清野 隆介1,2、鈴木 晴也1、小澤 健一3、荻野 拓2、西尾 圭史1、簑原 誠人2 (1.東理大先進工、2.産総研、3.KEK物構研)

[23a-P07-10]スピンコート法により製膜したヨウ化銅の膜特性評価

〇米本 旭1、丸山 隆弥1、後藤 和泰1,2、増田 淳1,2 (1.新潟大自然研、2.新潟大カーボンセンター)

[23a-P07-11]ラジカル水素反応性赤外レーザー蒸着法によるNaH薄膜合成

〇(M2)宗房 幸太1、福士 英里香1、原田 尚之2、大口 裕之1 (1.芝浦工大理工、2.物材研)

[23a-P07-12]LiBH4電解質を用いた薄膜型全固体Li電池開発への挑戦

〇(M2)戸澤 拓海1、鷲谷 俊輔1、鈴木 聡一郎1、石田 恵梨1、新妻 涼1、磯 啓一朗1、大口 裕之1 (1.芝浦工大理工)

[23a-P07-13]対向電極を有するプレーナー型VO2素子の自励発振に関する研究
-発振周波数の回路パラメータ及び素子温度依存性-

〇(M1)樹所 純平1、沖村 邦雄1、モハメッド シュルズ ミヤ2、中西 俊博3 (1.東海大工、2.成蹊大理工、3.京大院工)

[23a-P07-14]ZnOナノロッドバッファー層を導入したPolyimide上VO2薄膜の高配向結晶成長と曲げ耐久性

〇(M2)小澤 雪斗1、平鍋 頼2、下野 慎平2、劉 秋志2、沖村 邦雄1,2 (1.東海大院工、2.東海大工)

[23a-P07-15]GSTキャップ層の結晶化及びアモルファス化によるVO₂薄膜の不揮発的IMT制御に関する研究

〇大貫 卓斗1、劉 意琦2、名和 倭2、沖村 邦雄1,2、稲垣 翔哉3、村岡 祐治4、坂井 穣5、桑原 正史6、奈良崎 愛子6 (1.東海大院工、2.東海大工、3.岡山大理、4.岡山大基礎研、5.豊島製作所、6.産業技術総合研究所)

[23a-P07-16]MOD法による磁性ガーネット薄膜作製における反射スペクトル測定

〇中澤 俊1、張 健1、チャフィ ファティマ ザーハラ1、西川 雅美1、河原 正美2、石橋 隆幸1 (1.長岡技大、2.高純度化学)

[23a-P07-17]波長265nmLEDの光化学表面改質法により形成したポリカーボネート上シリコーン改質SiO2膜の形成とその評価

〇野尻 秀智1、岩井 和史1、吉井 良介2 (1.(株)レニアス、2.信越化学工業)

[23a-P07-18]CrドープITOエピタキシャル成長膜の作製および物性評価

〇栗原 悠花1、北川 彩貴1,2,3、中村 敏浩1,3 (1.京大院人環、2.学振特別研究員、3.京大国際高等教育院)

[23a-P07-19]3D Thin-Film Metrology using Lateral High Aspect Ratio Test Structures with Advanced Optical Techniques

〇Feng Gao1, Mikko Utriainen1, Jussi Kinnunen1, Wataru Momose2 (1.Chipmetrics Ltd., 2.ALD Japan Inc.)