講演情報
[23a-P07-18]CrドープITOエピタキシャル成長膜の作製および物性評価
〇栗原 悠花1、北川 彩貴1,2,3、中村 敏浩1,3 (1.京大院人環、2.学振特別研究員、3.京大国際高等教育院)
キーワード：
希薄磁性半導体,透明導電膜,エピタキシャル薄膜
酸化物系希薄磁性半導体としてCrドープ酸化インジウムスズ(ITO)薄膜に着目して研究を進めた。ITO中のCrの電子状態は伝導帯近傍に形成されることが予想されるため、ITO薄膜に対するCrの添加は電気、光学および磁気特性などの物性に影響を与えるものと考えられる。本研究ではCrドープITOエピタキシャル成長膜を作製し、その物性を体系的に評価した結果、高い電気伝導度と透明性および室温強磁性を示すことがわかった。