講演情報
[23a-P08-9]超高濃度オゾン水によるフォトレジスト除去２
〇三浦 敏徳1、加藤 直樹1、中川 彰利1、清家 聡1 (1.明電舎)
キーワード：
半導体,オゾン水,フォトレジスト
オゾン水は、半導体製造の洗浄工程で広く使用されている硫酸や過酸化水素などの有害な化学薬品に代わるものとして研究が進められています。当社では、明電舎ピュアオゾンジェネレーター（POG）から入手した濃度約100％の高純度オゾンガス（ピュアオゾンガス）を用いて、400ppmを超える超高濃度オゾン水生成装置の開発を行っている。今回、フォトレジスト除去効果を調べるため、得られたオゾン水を半導体リソグラフィ工程で使用されるフォトレジストの除去に適用したので報告する。