講演情報

[23p-12G-6][第8回薄膜・表面物理分科会奨励賞受賞記念講演] Siドライ酸化におけるSiO2/Si界面での過剰少数キャリア再結合と化学吸着O2種の役割

〇津田 泰孝1、吉越 章隆1、小川 修一2、坂本 徹也1、山本 善貴3、山本 幸男3、髙桑 雄二1,4 (1.原子力機構、2.日本大学、3.福井高専、4.東北大学)

キーワード:

薄膜・表面物理分科会