[23p-12J-1~10] 13.5 デバイス／配線／集積化技術

15:30 〜 15:45

[23p-12J-6] 接合絶縁膜の特性の違いによるCMPへの影響

〇端山 健太¹、中山 航平¹、井上 史大¹ (1.横浜国大)

キーワード：

化学機械研磨