講演情報
[23p-12K-2]ヘリウムイオン顕微鏡技術による極薄シリコンナノシートへの直接ナノ加工
〇森田 行則1、井上 憲介2、杉江 隆一2、小川 真一1 (1.産総研、2.東レリサーチセンター)
キーワード：
ヘリウムイオン顕微鏡,SOI,ナノポア
本研究では、極薄化したシリコンナノシートに対して収束Heイオンビーム照射を行い、リソグラフィ技術を用いずnmレベルの位置制御したナノ加工を目指す。今回、きわめて均一に薄膜化したシリコン層を用いることで、二次元材料と同様に、位置制御されたナノポアアレイ形成の可能性を検証した。