講演情報

15:30 〜 15:45

[23p-12K-7]印刷とパルスレーザーアニールによるSi基板上へのSiGe薄膜成長

〇佐藤剛志¹、宮本聡¹、鈴木紹太²、南山偉明²、ダムリンマルワン^2,3、宇佐美徳隆^1,4,5 (1.名大院工、2.東洋アルミ、3.阪大院工、4.名大未来機構、5.名大未材研)

レーザーアニール,シリコンゲルマニウム,結晶成長