講演情報
[23p-12M-12]結晶基板を用いたアモルファスシリカ膜の構造制御
〇(M1)小笠原 颯平1、Katelyn A. Kirchner2、木崎 和郎1、田尻 寛男3、小原 真司4、太田 裕道5、John C. Mauro2、松尾 保孝5 (1.東北大工、2.ペンシルベニア州大、3.JASRI、4.物材機構、5.北大電子研)
キーワード：
シリカガラス
シリカアモルファスのより簡便な構造制御のため、Si結晶基板によるSiO2アモルファス薄膜の構造制御を試みた。今回作成したSiO2薄膜試料では、膜厚が薄いものほどSiO2ネットワーク中の中距離秩序構造を反映するピークが高波数側にシフトした。また、このシフトが大きいものほど、熱伝導率が低下した。基板効果により、薄膜の熱伝導率は最大でバルクの２分の1になった。