講演情報
[23p-1BN-5]レーザー分子線堆積DNA薄膜：電気伝導特性の評価
〇劉 博林1、劉 帥1、石川 尚平1、黄 哲浩1、村田 朋大2、Shen Xuechen2、南 皓輔3、山崎 智彦3、佐藤 知正1、有賀 克彦3,2、松木 伸行1 (1.神奈川大、2.東大院新領域、3.物材機構)
キーワード：
DNA,レーザー堆積,薄膜機能材料
真性のデオキシリボ核酸（DNA）の抵抗率は108 ~109 Ω·cmでほぼ絶縁体に近い半導体的なキャリア輸送特性を有するとともに，水分子吸着，G-C対とA-T対の含有比率，金属イオンのインターカレーション等によって顕著に変化することが知られており，分子エレクトロニクス材料としての応用が期待されている．我々は，無機・有機の広範囲な材料に対してハイブリッドな分子層堆積を可能とするレーザー分子線堆積法（LMBD法）を用いてDNAを薄膜化し新規デバイス応用の実現を目指している（T. Murata et al., Bull. Chem. Soc. Jpn., 96, 29 (2022))．本研究ではLMBDにより形成したDNA薄膜の電気伝導特性について評価した．