講演情報

14:15 〜 14:30奨励賞エントリー

[23p-22A-6]印刷と焼成によるSiGe 薄膜の液相成長メカニズム

〇(M1)伊藤耕平¹、宮本聡¹、鈴木紹太²、南山偉明²、ダムリンマルワン^2,3、宇佐美徳隆^1,4,5 (1.名大院工、2.東洋アルミ、3.阪大院工、4.名大未来機構、5.名大未材研)

SiGe,エピタキシャル成長,液相成長