セッション詳細

[23p-22A-1~8]15.5 IV族結晶,IV-IV族混晶

2024年3月23日(土) 13:00 〜 15:00
22A (2号館)
黒澤 昌志(名大)

[23p-22A-1][第55回講演奨励賞受賞記念講演] 多結晶n型Ge薄膜における水素パッシベーション効果

〇野沢 公暉1、末益 崇1、都甲 薫1 (1.筑波大学院)

[23p-22A-2]多結晶In1-xGaxAs薄膜物性の体系的調査

〇(M1)Seo Jisol1、野沢 公暉1、石山 隆光1、末益 崇1、都甲 薫1 (1.筑波大院 数理物質)

[23p-22A-3]Si基板上GeSn細線のレーザー溶融結晶化における下地SiO2膜厚とレーザー走査速度の最適化

〇早川 雄大1、近藤 優聖1、國吉 望月2、小林 拓真1、志村 孝功1、渡部 平司1 (1.大阪大工、2.アルバック協働研)

[23p-22A-4]界面変調Sn添加多結晶Ge薄膜/絶縁基板へのポストアニール効果

〇橋本 隆1、古賀 泰志郎1、梶原 隆司1、佐道 泰造1 (1.九大システム情報)

[23p-22A-5]X線吸収分光法を用いたバルクSiGeのDebye-Waller因子評価

〇渡辺 剛1、吉岡 和俊2、荒井 康智3、横川 凌2,4、廣沢 一郎4,5、小椋 厚志2,4 (1.(公財)高輝度光科学研究センター、2.明治大、3.JAXA、4.明治大MREL、5.九州シンクロトロン光研究センター)

[23p-22A-6]印刷と焼成によるSiGe 薄膜の液相成長メカニズム

〇(M1)伊藤 耕平1、宮本 聡1、鈴木 紹太2、南山 偉明2、ダムリン マルワン2,3、宇佐美 徳隆1,4,5 (1.名大院工、2.東洋アルミ、3.阪大院工、4.名大未来機構、5.名大未材研)

[23p-22A-7]多層Staggered SiGeナノドットにおけるSiスペーサ成長温度と光学特性についての評価

〇伊藤 佑太1、横川 凌1,2、Wen Wei-Chen3、山本 裕司3、箕輪 卓哉1、小椋 厚志1,2 (1.明治大理工、2.明大MREL、3.IHP)

[23p-22A-8]SiGeラマンスペクトルの非対称ブロードニングに関する考察

〇横川 凌1,2、寿川 尚1、前田 唯葉1、荒井 康智3、米永 一郎4、小椋 厚志1,2 (1.明治大理工、2.明治大MREL、3.JAXA、4.東北大)