セッション詳細
[23p-22A-3]Si基板上GeSn細線のレーザー溶融結晶化における下地SiO2膜厚とレーザー走査速度の最適化
〇早川 雄大1、近藤 優聖1、國吉 望月2、小林 拓真1、志村 孝功1、渡部 平司1 (1.大阪大工、2.アルバック協働研)
[23p-22A-5]X線吸収分光法を用いたバルクSiGeのDebye-Waller因子評価
〇渡辺 剛1、吉岡 和俊2、荒井 康智3、横川 凌2,4、廣沢 一郎4,5、小椋 厚志2,4 (1.(公財)高輝度光科学研究センター、2.明治大、3.JAXA、4.明治大MREL、5.九州シンクロトロン光研究センター)
[23p-22A-6]印刷と焼成によるSiGe 薄膜の液相成長メカニズム
〇(M1)伊藤 耕平1、宮本 聡1、鈴木 紹太2、南山 偉明2、ダムリン マルワン2,3、宇佐美 徳隆1,4,5 (1.名大院工、2.東洋アルミ、3.阪大院工、4.名大未来機構、5.名大未材研)
[23p-22A-7]多層Staggered SiGeナノドットにおけるSiスペーサ成長温度と光学特性についての評価
〇伊藤 佑太1、横川 凌1,2、Wen Wei-Chen3、山本 裕司3、箕輪 卓哉1、小椋 厚志1,2 (1.明治大理工、2.明大MREL、3.IHP)
[23p-22A-8]SiGeラマンスペクトルの非対称ブロードニングに関する考察
〇横川 凌1,2、寿川 尚1、前田 唯葉1、荒井 康智3、米永 一郎4、小椋 厚志1,2 (1.明治大理工、2.明治大MREL、3.JAXA、4.東北大)