講演情報
[23p-P04-6]CVD合成により成膜したフッ化テルビウム添加硫化亜鉛の特性評価
〇福田 拓海1、山本 伸一1、和迩 浩一1 (1.龍谷大先端理工)
キーワード：
無機EL,フッ化テルビウム添加硫化亜鉛
無機ELは電界印加により励起・発光するデバイスである。本研究では、低融点材料に有利であり10-2Pa程度で成膜が可能な抵抗加熱蒸着法に着目し、蒸着源としてZn, TbF3金属粒子を用いて成膜した後、硫化処理を行うことで、ZnS:TbF3薄膜を作製した。続いて、ZnS:TbF3薄膜の評価を行った。