[24a-31B-1~9] 17.3 層状物質

10:45 〜 11:00

[24a-31B-7] AFM による PVD-WS₂連続膜の膜厚測定

〇(B)伊東 壮真¹、寺岡 楓¹、今井 慎也¹、松永 尚樹¹、黒原 啓太¹、角嶋 邦之¹、若林 整¹ (1.東工大工)

キーワード：

二次元材料,遷移金属ダイカルコゲナイド,AFM

SiO₂上にスパッタ成膜しSVA処理を施したWS₂連続膜について、AFMを用いた膜厚・表面粗さの測定を行った。成膜時間と膜厚・表面粗さの関係から成長状態の変化について考察した。