講演情報
[24p-12H-9]PCSDを利用した高屈曲性薄膜キャパシタ製造
〇福田 真幸1、北中 佑樹1、山口 巖1、野本 淳一1、中島 智彦1 (1.産総研)
キーワード：
フレキシブル薄膜,誘電体
近年、電子デバイスの小型化や複雑形状化が進み、回路基板内部や曲面へ搭載可能な薄膜キャパシタが求められている。本研究では、紫外光照射により低温結晶成長を可能にするPCSD(光化学溶液堆積)法における、成膜条件を精密に制御することでクラックを抑制した高結晶性誘電体膜を金属上に低温製膜し、誘電損失の小さい高屈曲性薄膜キャパシタの製造に成功した。得られたキャパシタの誘電特性および機械特性を報告する。