講演情報
[24p-31B-2]分子イオン成膜法とイオンアシスト成膜法の酸化ケイ素と炭化ケイ素の成膜への応用
〇吉村 智1、竹内 孝江1、木内 正人1,2 (1.阪大工、2.セラスト研)
キーワード：
酸化ケイ素,炭化ケイ素
分子イオン成膜法では、原料をプラズマ化して得た多数のイオンから１つのイオン種のみを質量分離により抽出し、これを基板に照射することにより成膜を行う。イオンアシスト成膜法では、原料ガスを基板に吹き付け、そこにイオンビームを照射することにより、原料を基板に成膜したり、酸化膜を形成することができる。今回は、この２つの手法を併用して成膜レートの向上を試みる、以下の３つの実験を行った。(1)まず、SiO+分子イオンを照射している最中に、オルトケイ酸テトラエチル（TEOS）を同時に基板に吹き付ける実験を行った。次に、 (2)メチルシラン、または(3)ジメチルシランによる熱CVDによるSiC成膜実験の最中に、SiCH5+分子イオンを同時に照射する実験を行った。いずれの場合も、イオンビーム単独入射の場合に比して、成膜レートの増大が観測された。