講演情報
[24p-P09-3]粉体ターゲットを用いた成膜機構とターゲット表面の関係I
〇川崎 仁晴1、佐竹 卓彦1,2、青木 振一2、大島 多美子3 (1.佐世保高専、2.崇城大、3.長崎大学)
キーワード：
粉体ターゲット,プラズマプロセス,スパッタリング成膜
粉体ターゲットを利用したスパッタリングによるAZO薄膜の作製を通じて、ターゲット表面を制御し、常に新しいターゲット表面が現れる様に工夫する。また、それによって膜質がどのように変化するかを調べた。加圧ターゲットを用いて作製した薄膜のピーク強度は、未処理のものよりも高いことが分かった。ここには示していないが、加圧ターゲットを用いた場合の成膜レートは、加圧しない場合の成膜レートよりも高いことや、透過率は、ターゲットの条件によらず、すべて80%以上あることなどが、段差膜厚計や紫外可視近赤外分光光度計による透過率計測結果から分かった。