セッション詳細

[24p-P09-1~8]8.2 プラズマ成膜・エッチング・表面処理

2024年3月24日(日) 16:00 〜 18:00
P09 (9号館)

[24p-P09-1]大電力パルスマグネトロンスパッタリングプラズマの空間0次元モデルの構築

〇柿沼 慧多1、阿部 元暉1、太田 貴之2、小田 昭紀1 (1.千葉工大工、2.名城大理工)

[24p-P09-2]RFマグネトロンスパッタリング法を用いた面内配向HAp膜の製膜

〇(M1)鵜久森 竜也1、松川 真美1 (1.同志社大)

[24p-P09-3]粉体ターゲットを用いた成膜機構とターゲット表面の関係I

〇川崎 仁晴1、佐竹 卓彦1,2、青木 振一2、大島 多美子3 (1.佐世保高専、2.崇城大、3.長崎大学)

[24p-P09-4]プラズマ支援反応性パルスDCスパッタリングを用いたa-IGZO薄膜の特性制御

〇竹中 弘祐1、上田 拓海1、都甲 将1、江部 明憲2、節原 裕一1 (1.阪大接合研、2.イー・エム・ディー)

[24p-P09-5]SiCxNyOzの室温プラズマCVD成膜における前駆体間相互作用

川上 広樹1、堀 健太1、渡部 亨1、〇羽深 等1 (1.横国大院理工)

[24p-P09-6]CxHy+ArプラズマCVDを用いた水素化アモルファスカーボン膜の堆積特性に対するガス圧力の効果

〇(M2)小野 晋次郎1、恵利 眞人1、奥村 賢直1、山下 尚人1、鎌滝 晋礼1、板垣 奈穂1、古閑 一憲1、白谷 正治1 (1.九州大学)

[24p-P09-7]低温プラズマを使った官能基修飾における多層カーボンナノチューブ表面のイソシアネート基修飾の調査

〇前原 聖心1、渡邊 翔斗1、中村 圭二1、近藤 博基2、小川 大輔1 (1.中部大、2.九州大)

[24p-P09-8]NF3 およびSF6 凝縮層の電子励起によるSiN のクライオエッチング

〇小澤 一貴1、渡辺 龍星1、山田 智輝1、佐藤 哲也1 (1.山梨大学)